半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。

       半導體行業中的超純水，又名UP水，主要是半導體原材料生產加工、檢測和半導體器件的制備用水。電?元器件對超純水使?水質要求高。市場環境變化使得元器件尺寸縮小與精細度上升，使得超純水水質與水量的技術指標不斷提升。超純水制備主要包括以下三個階段，即初步吸附過濾階段、反滲透凈化階段和樹脂離子交換階段。其中，離子交換是將水中的正離子與離子交換樹脂中的H+離?交換，水中的負離子與離子交換樹脂中的OH-離子交換，從而達到純化水的目的。

       我公司半導體行業用超純水出水水質完全符合美國ASTM純水水質標準、我國電子工業部電子級水質技術標準（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級標準）、我國電子工業部高純水水質試行標準、美國半導體工業用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規模集成電路水質標準。

電子工業用超純水工藝大致分成以下3種：

　　1、采用離子交換樹脂制備電子工業超純水的傳統水處理方式：

            原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→陽床→陰床→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

　　2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備電子工業超純水的方式：

           原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→混床(復床)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

　　3、采用反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備電子工業超純水的的方式這是一種制取超純水的新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，：

           原水→多介質過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→中間水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點

我司半導體工業超純水設備特點：

　　電子工業超純水設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等構成主要設備系統。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設有液位控制系統、高低壓水泵均設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人值守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使該設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。